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蔡司X射線顯微鏡 VersaXRM 系列成像產品秉持獨特的幾何加光學兩級放大設計理念。無需制作切片或破壞樣品，即可精準確定缺陷位置，分析缺陷形態，查找失效原因，進而提升產品質量。目前已經廣泛的應用在半導體和電子封裝、元件和器件的失效分析及工藝開發等研究領域。
· HART 高縱橫比樣品優化掃描模式提升掃描效率可達 50%
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