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2022-08-04 鄭女士
Parylene采用了一種獨特的化學氣相沉積工藝（CVD）。CVD工藝最早應用于半導體工業的外延生長，整個過程是氣態反應，又在真空條件下進行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達到其它方法難以實現的同形性。
派瑞林沉積過程過程主要有三步：
1. 真空130℃條件下固態派瑞林材料升華成氣態。
2. 真空680℃條件下，將氣態雙份子裂解成活性單體。
3. 真空常溫下，氣態單體在基體上生長聚合。
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