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鈦顆粒_高純ta0鈦顆粒 33鈦6鈦粒10mm鈦立方體

來源：張慧慧|

發(fā)表時間：2020-11-30

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鈦顆粒_高純ta0鈦顆粒 3*3鈦*6鈦粒10mm鈦立方體

蒂姆（北京）新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝化合物靶材。常用參數(shù)：靶材純度：99.99% 制備工藝：熱等靜壓、常溫?zé)Y(jié)等靶材形態(tài)：平面靶、多弧靶、臺階靶、異形靶圓靶尺寸：φ25.43mm、φ503mm、φ50.84mm、φ603mm、φ76.23mm、φ804mm、φ101.65mm、φ152.46mm 尺寸可定制方靶尺寸：50503mm、1001004mm、3003005mm 尺寸可定制綁定服務(wù)：陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務(wù)，提高陶瓷靶材導(dǎo)電導(dǎo)熱性，提高使用效率包裝方式：真空包裝


化學(xué)式	品名	純度（%）	致密度	品牌	適用設(shè)備
BN	氮化硼靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
AlN	氮化鋁靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
Si3N4	氮化硅靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
TiN	氮化鈦靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
TaN	氮化鉭靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
ZnS	硫化鋅靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
CdS	硫化鎘靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
MoS2	二硫化鉬靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
SnS2	二硫化錫靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
WS2	二硫化鎢靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
B4C	碳化硼靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
HfC	碳化鉿靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
WC	碳化鎢靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
Mo2C	碳化鉬靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
AlB2	硼化鋁靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
TiC	碳化鈦靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
BC	碳化硼靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
SiC	碳化硅靶材	2N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LiTiO3	鈦酸鋰靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LiTaO3	鉭酸鋰靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
GST225	鍺銻碲靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
Sb2S3	硫化銻靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
In2Se3	硒化銦靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
InSe	硒化銦靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LiTiO3	鈦酸鋰靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LiTaO3	鉭酸鋰靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LiCoO2	鈷酸鋰靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
SrTiO3	鈦酸鍶靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
BaTiO3	鈦酸鋇靶材	3N5	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
Li0.35La0.57TiO3	鈦酸鑭鋰靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
（Ca10(PO4)6(OH)2）	羥基磷灰石靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
Y3Fe5O12	YIG 靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
LaF3	氟化鑭靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
NaF	氟化鈉靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
CaF2	氟化鈣靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
BaF2	氟化鋇靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
MgF2	氟化鎂靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
KF	氟化鉀靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
CeF3	氟化鈰靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
SrF3	氟化鍶靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
NdF3	氟化釹靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
DyF3	氟化鏑靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
SmF3	氟化釤靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
YbF3	氟化鐿靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
YF3	氟化釔靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
ErF3	氟化餌靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備
ZnSe	硒化鋅靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控濺射設(shè)備

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